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作者 一博科技
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上次讲到了阻抗计算和工艺制程之间的一些"权衡的艺术"，主要是为了达到我们阻抗管控目的的同时，也能保证工艺加工的方便，以及尽量降低加工成本。接下来，就具体说说，利用SI9000计算阻抗的具体过程。
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! C0 J6 M" b9 y8 t. |( t% {3 u如何计算阻抗 对于阻抗计算而言，层叠设置是先决条件，首先必选先设置好单板的具体层叠信息，下面是一个常见八层板的层叠信息，以这个为例子，看看阻抗计算的一些注意事项。6 @8 @4 l; s! U% O1 e
图一 对于信号线而言，在板子上实现的形式又分为微带线和带状线，两者的不同，使得阻抗计算选择的结构不一致，下面分别讨论这两种常见的阻抗计算的情况。
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: l, v) z$ v7 u9 z' |$ R" Ja、微带线
+ v# Q& J, V" {: K 微带线的特点就是只有一个参考层，上面盖绿油。下面是单线（50Ω）和差分线（100Ω）的具体参数设置。
) n' n+ U0 c. P: t/ e+ a/ D/ @图二 注意事项：% G3 R- C, q7 R: p* u
1、H1是表层到参考层的介质厚度，不包括参考层的铜厚；
, d- ]" L0 h( c3 O2、C1、C2、 C3是绿油的厚度，一般绿油厚度在0.5mil~1mil左右，所以保持默认就好，其厚度对于阻抗有细微影响，这也是处理文字面是，尽量不让丝印放置在阻抗线上的原因。# `: q6 s3 Q* K! M+ b7 u' A
3、T1的厚度一般为表层铜厚加电镀的厚度，1.8mil为0.5OZ+Plating的结果。' K7 Y& ~1 R9 M: j1 C
4、一般W1是板上走线的宽度，由于加工后的线为梯形，所以W2<W1.一般当铜厚为1mil以上时W1-W2=1mil，当铜厚为0.5mil时W1-W2=0.5mil。
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- i, l: J. u2 N0 [: H5 zb、带状线$ q, o/ l8 M8 l/ Q |6 _6 I7 t- r
带状线是位于两个参考平面之间的导线。下面是单线（50Ω）和差分线（100Ω）的具体参数设置。
9 O6 k1 N! X* R图三
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注意事项：
9 h2 j8 V; n! u. t g% Y6 |1、H1是导线到参考层之间CORE的厚度，H2是导线到参考层之间PP的厚度（考虑pp流胶情况）；如图一所示层叠，若阻抗线在ART03层，那么H1就是GND02到ART03之间的介质厚度，而H2则是GND04到ART03之间的介质厚度再加上铜厚。+ e( }% b* o$ q3 L8 l
2、Er1和Er2之间的介质不同时，可以填各自对应的介电常数。/ ?- J- A8 a* A
3、T1的厚度一般为内层铜厚；当单板为HDI板是，需要注意内层是否有电镀。
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7 e4 q9 y/ x" {! [3 n上述是常见的阻抗线的计算，然而有部分单板由于板子较厚，层数较少，利用上面的方法没有办法计算出阻抗线的具体参数，这时候就要考虑共面阻抗了，如下图所示： - C4 O0 Q7 A+ w8 ~% f1 \* v7 k
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注意事项：* I8 y% R' c% o
1、H1是导线到最近参考层之间介质的厚度。 s- F! g9 A9 F4 p
2、G1和G2是伴随地的宽度，一般是越大越好。) E9 y& P- s7 g5 T0 }
3、D1是到伴随地之间的间距。
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问题：了解基本的阻抗计算后，对于单板上的信号线而言，他们的阻抗和什么因素有关，各自是什么关系（正比还是反比）？0 V$ ~+ F' q) W9 M, V' g
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