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光电子集成芯片的设计规则检查

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发表于 2024-12-19 08:00:00 | 显示全部楼层 |阅读模式
设计规则检查(DRC)简介4 g. Q+ c4 e" V
设计规则检查是集成线路设计中的关键验证步骤,通过验证物理版图是否符合预定义的设计规则来确保制造可行性。在光电子集成芯片中,由于光波导和器件的特殊要求,设计规则检查变得更加重要。PIC Studio当中的pVerify DRC工具提供全面的设计规则检查功能,使设计人员能够高效地验证版图。
. m# y8 ?/ U2 F& G
( V8 c7 V4 N. J基本设计规则检查/ P: g+ Q3 m, }( X+ M" d. c
PIC Studio实现了构成版图验证基础的设计规则检查,确保各个几何元素满足制造约束。该平台提供多种基本检查机制。& g4 U. _/ `0 |" n

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# r3 s1 B0 M& w/ Q& ^$ W2 _图1:基本设计规则检查的图示,包括最小宽度和精确宽度要求,展示了尺寸超出指定参数时如何识别违规情况。( t! ~' _3 h9 X! N4 B

! f: k3 G; L, o) g0 K9 r; x: l最小宽度检查确保没有特征比工艺定义的最小尺寸更窄。这对波导尤为重要,因为宽度变化会显著影响光学性能。精确宽度检查验证特定特征是否保持精确尺寸,这对定向耦合器等器件极为重要,因为耦合比依赖于精确的几何参数。- K. E: g( R' t- V$ I/ k* w% b" e

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! a7 w; A! N7 e) x- W; o  T/ r( r图2:设计规则检查验证中的间距和面积检查演示,展示了如何验证特征之间的最小间距和最小面积要求。  B* p# a5 y" A4 D, L
# d; s2 A8 E3 W, g
间距检查验证相邻特征之间是否存在足够的分隔,以防止制造问题和不需要的耦合效应。面积检查确保特征足够大,可以可靠制造,这对接触焊盘和其他金属结构特别重要。
) H) M5 s5 ], s" Z1 p, [9 L' H) B# h  f9 I! |
层生成方法
$ L; q- b& y' X$ G" i, O5 R8 aPIC Studio提供了支持复杂设计规则检查操作的复杂层生成功能。
1 T6 @5 D& |& c% w5 i* g

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图3:用于设计规则检查验证的各种布尔运算(或、与、异或、A-B、B-A)的图示。$ q/ s% P: D2 S* y5 z% I/ ?! F. @! G

+ m: t) `5 j) v7 J* `, g

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! G! U) w0 k( N/ ]8 Q, K
图4:用于修改几何特征的正向和负向尺寸操作演示。
: G+ z& |# Z5 L) [& ]
' p+ t. u, d7 u) d. c. Y' m, K+ e扩展几何检查
% g; m( O- }$ B8 J- d2 K7 l* a除基本检查外,PIC Studio还实现了复杂光子结构所需的高级几何验证功能。" e3 z5 V6 F4 E: U9 }3 Z4 g2 f

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3 i+ `: l7 l! B. |  Z. }% z
图5:扩展几何检查的示例,包括不同层之间的包围和分隔要求。0 a' F! h9 ?9 F% i

* z- S3 P* }6 S. u6 w* I7 X

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, n$ _) k4 g+ P5 |, S$ s# i: B. z
图6:各种几何关系检查的演示,包括不同层之间的内部、外部、不相交和重叠条件。
" K, Z/ P  I$ D( K8 o/ N2 N4 l9 T+ d: P
锐角和密度检查! s: S- }8 F( c$ f" `, a
PIC Studio为制造关键特征提供专门的检查,锐角可由用户自行决定是否执行自动修复,或是用户自行手动修复。8 [5 z2 j# g) Q6 |: W& h

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% ~% H: S  Y5 k; `' W) M
图7:锐角检测和修正方法的图示,展示了如何识别和修补关键角度。4 o! `: |- e6 _' B

+ B& ]8 w, G5 ^

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1 T% H; h: Q% K! [$ f+ \
图8:密度检查演示,展示了如何根据指定限制验证局部图形密度。
2 t! m5 [( y& V7 l
- m, @2 @' E& b. b! R( \与设计流程的集成
9 z: _2 w1 A; g; a( CPIC Studio的设计规则检查功能完全集成到设计流程中,支持各种输入点和验证方法。; O$ J, r% a, ~

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图9:全面的图表,展示了设计规则检查验证如何与不同设计流程集成,包括原理图驱动、版图驱动和GDS驱动方法。$ n, D: W: m7 V
6 k$ @, d8 r8 ~& \
pVerify设计规则检查解决方案的优势
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6 x  H$ x3 V4 S图10:pVerify作为设计规则检查解决方案的主要优势概述,突出其效率和成本效益。7 v! z+ r; w5 S. Y, N9 N, ~

3 b# j. l) P# K1 o5 F6 i4 mPIC Studio的pVerify提供多个主要优势:
2 q/ q0 r  X, ]! b& o& G( s8 c全面的设计规则检查套件确保设计准确性
1 m1 _$ {6 m; U1 D6 b包括布尔运算和密度检查在内的高级功能
6 z% E% z2 P+ x4 M早期阶段的设计规则检查验证实现快速问题解决' E1 R0 H4 o$ g
与基于Windows的设计流程无缝集成- x# S" ^* j& h) E/ |4 q# u( R
所有设计人员都能使用,促进持续的设计验证! U& j$ S# C; G
与业界标准签核工具(如Calibre)兼容
! M- o* l* m- u* e, v" V) q, A

+ G  }- N9 e- |PIC Studio平台支持主要光电子芯片代工厂和工艺,确保在行业内广泛适用。高效的验证引擎在保持设计规则检查高准确性的同时实现快速周转。通过这种全面的设计规则检查实现,使设计人员能够创建可制造的光电子集成芯片,同时保持高生产力和设计质量。, ]0 ?1 g/ }3 d1 ]( |; g( m$ _) `- x7 W
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  ~" S3 M$ |) Z  j; }' ~转载请注明出处,请勿修改内容和删除作者信息!
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6 M6 u5 y" e8 L+ Y( }* k关于我们:
# r: s6 K9 h3 Q4 v& l! l深圳逍遥科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家专注于半导体芯片设计自动化(EDA)的高科技软件公司。我们自主开发特色工艺芯片设计和仿真软件,提供成熟的设计解决方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分别针对光电芯片、微机电系统、超透镜的设计与仿真。我们提供特色工艺的半导体芯片集成电路版图、IP和PDK工程服务,广泛服务于光通讯、光计算、光量子通信和微纳光子器件领域的头部客户。逍遥科技与国内外晶圆代工厂及硅光/MEMS中试线合作,推动特色工艺半导体产业链发展,致力于为客户提供前沿技术与服务。0 i0 Q! z$ U& e

  Y- {$ B# h% s( [http://www.latitudeda.com/
# Q) o+ V  N. \* Y0 V' d: @2 p(点击上方名片关注我们,发现更多精彩内容)
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